Bipolartechnik

Grundlage dieser Technik ist das Prinzip der bipolarenHalbleiterbauelemente. Als Herstellungsverfahren wird die Epitaxieplanartechnologie angewendet. Bauelemente in der Bipolartechnik, z.B. der Bipolartransistor, sind durch passend gestaltete, dotierte Halbleiterschichten, die pn-Übergänge oder dielektrische Schichten bilden, gekennzeichnet. Ein derartiger Aufbau wird erreicht, indem an bestimmten Stellen des Halbleiterkristalls durch Diffusion Störstellen erzeugt werden. Diese selektive Eindiffusion von Störstellen geschieht mithilfe der Maskentechnik.

Bei der Bipolartechnik müssen die Bauelemente im Halbleiterkristall potenzialmäßig voneinander getrennt sein. Dazu werden so genannte isolierte Inseln mithilfe von pn-Übergängen erzeugt, in denen dann die einzelnen Bauelemente realisiert werden.

Zur Herstellung einer integrierten Schaltung in Bipolartechnik sind zahlreiche nacheinander auszuführende Prozessschritte erforderlich.